1.4나노미터 공정
반도체 안의 회로간격(선폭)을 머리카락 굵기의 10만분의 1 수준인 1.4㎚(나노미터, 1㎚=10억분의 1m)로 만드는 공정. 선폭이 좁을수록 반도체 생산업체는 한 웨이퍼에서 더 많은 반도체를 만들 수 있다. 고객사도 작은 반도체를 활용해 초소형·저전력 기기를 생산할 수 있다.
2022년 10월 3일 삼성전자는 당일 개최된 ‘삼성 파운드리 포럼’에서 “2025년 2㎚, 2027년에 1.4㎚ 공정을 도입하겠다”고 밝혔다. 1.4㎚ 공정 도입 시기를 밝힌 것은 삼성전자가 처음이다.
파운드리 선두 주자 TSMC는 2022년 5월 1.4㎚ 공정 개발을 공식화했지만 구체적인 일정을 공개하지는 않았다. 반도체업계에서는 양산 시점을 2027~2028년으로 예상하고 있다. 삼성전자는 2㎚를 비롯해 1.4㎚까지 구체적인 개발 로드맵을 발표하며 TSMC보다 한 발짝 앞서 나갔다.
-
10·4 남북 정상선언
2007년 10월4일 노무현 대통령과 김정일 북한 국방위원장이 공동으로 발표한 ''남북관계...
-
1인 소비 양극화
한 개인이 품목과 기호에 따라 자신의 소득 수준보다 높거나 낮은 소비를 동시 에 하는 ''...
-
12nm DRAM
회로 선폭 12나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m)급의 D램. 2023년 5월 18일 ...
-
100세 시대 프로젝트
평균수명 80세에 맞춰진 교육 정년 복지 등 국가정책의 큰 틀을 100세 시대에 맞게 바꾸...