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[High-K Metal Gate, HKMG]반도체 공정은 미세화 될수록 누설전류가 증가하게 된다. HKMG는 누설전류를 효과적으로 줄일 수 있도록 신물질이 적용된 공정 기술로 기존 기술에 비해 제품의 소비전력을 줄이고 회로의 집적도를 높이는 것에 유리하다.
반도체 공정은 미세화 될수록 누설전류가 증가하게 된다. HKMG는 누설전류를 효과적으로 줄일 수 있도록 신물질이 적용된 공정 기술로 기존 기술에 비해 제품의 소비전력을 줄이고 회로의 집적도를 높이는 것에 유리하다.