경제용어사전

화학기상증착법

[chemical vapor deposition, CVD]

반도체 등의 집적회로(IC) 제조공정에서 열ㆍ전기로 원료 가스의 화학작용을 일으켜 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 기술이다. 실리콘 산화막, 실리콘 질소막, 아모르퍼스 실리콘(Amorphous Silicon) 박막 등을 만드는데 이용된다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나 고주파로 플라스마화해 원료물질의 반응성을 높이면 기판 위에 흡착된다.

  • 화학물질 배출저감제도

    국민의 건강권을 보장하기 위해 벤젠, 디클로로메탄 등 고독성 화학물질의 배출량을 감축하도록...

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    1987년 IT분야의 표준정립을 위해 국제 표준화 기구인 ISO와 IEC가 설립한 위원회....

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