자가정렬이중패턴
[Self-aligned Double Patterning Technology, SaDPT]2007년 10월 삼성전자가 30나노 64기가비트(Gb) 낸드플래시 메모리를 개발하면서 처음 사용한 기술. SaDPT는 60나노 선폭으로 두번 코팅 공정을 해서 30나노를 구현하는 기존 방식(DPT)으로는 제품 양산이 어려운 점을 극복하기 위해 단 한차례만 코팅 공정을 거친 뒤 산화막을 중간에 넣고 깎아내는 방식으로 이중 회로 패턴을 형성해 30나노를 구현해 낸 신기술이다.
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