용어사전

CNT 펠리클

[CNT pellicle]

반도체 제조 과정에서 포토마스크를 보호하는 덮개 역할을 하는 소재다.

기존 금속 실리사이드(MeSi) 소재 펠리클과 달리, 탄소나노튜브로 만든 직물 형태의 구조를 가지고 있어 EUV 빛의 투과율을 크게 높일 수 있다. 이는 2나노미터(nm) 이하 공정의 수율과 가격 경쟁력을 높일 수 있는 핵심 기술로 주목받고 있다.

CNT 펠리클의 또 다른 장점은 뛰어난 내구성이다. 차세대 하이-NA EUV 장비에서 요구되는 600W 이상의 고출력에도 견딜 수 있어, 기존 펠리클의 한계를 극복할 수 있을 것으로 보인다.

2024년 10월 삼성전자는 에프에스티와 공동 개발한 CNT 펠리클이 94% 이상의 EUV 투과율을 달성했다고 발표했다. 이는 기존 펠리클보다 5~6% 높은 수치로, 2nm 이하 공정에서 큰 성능 향상을 가져올 것으로 기대된다