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K반도체 전략

 

한국이 2030년까지 글로벌 반도체 공급망을 주도하도록 하기 위해 한국내에 세계 최고 반도체 생산기지를 구축하겠다는 전략. 이를 위해 반도체 연구개발(R&D) 세액공제 확대, 금융지원 강화, 화학물질 규제 합리화와 함께 ‘반도체 특별법’ 제정 등을 실시하게 된다. 2021년 5월 12일 문재인 대통령이 삼성전자 평택 3공장을 방문한 자리에서 발표했다.

K반도체 전략은 △세계 최대 규모 K반도체 벨트 조성 △반도체 연구개발(R&D)·시설투자 세액공제 확대(최대 40~50%) △1조원 이상의 반도체 설비투자 특별자금 신설 △반도체 단지의 10년치 용수 물량 확보 △반도체 10년간 전문인력 1500명 추가 배출 △반도체 특별법 제정 등의 내용을 담고 있다.

세제 혜택 큰 폭 확대

정부는 한국 기업들이 글로벌 경쟁에서 뒤처지지 않도록 세제 지원을 늘리기로 했다. 우선 연구개발(R&D) 비용을 최대 50%까지 세액공제해주기로 했다. 현재는 대기업과 중견기업은 30%, 중소기업은 40%가 최고다. 방식은 세액공제 항목에 ‘핵심전략기술’을 신설하는 것이다.

시설투자 때 세액공제율도 대기업 10%, 중견기업 12%, 중소기업 20% 등으로 높인다. 현재는 최고가 대기업 6%, 중견기업 8%, 중소기업 15% 등이다. 역시 핵심전략기술 항목을 신설하고 직전 3년 동안 평균 투자액보다 늘어난 설비투자액은 추가로 4%포인트 더 세액공제하기로 했다. 정부는 조세특례제한법 개정안을 오는 7월께 국회에 제출하고 국회에서 빨리 통과되면 하반기부터 적용하기로 했다.

정부는 R&D비용 세액공제는 외국에 비해 대폭 높이는 것이라고 강조했다. 미국은 R&D에 20%의 세액공제 혜택만 부여하고 있다는 것이 정부 관계자 설명이다.

하지만 업계에선 시설투자 때 세액공제는 기대에 미치지 못한다는 반응이다. 반도체업계는 미국이 40%의 세액공제율을 적용할 방침인 만큼 50%가 필요하다고 요청해왔다. 반도체 기업의 투자는 설비투자가 R&D보다 2~3배 많다. 지난해 삼성전자의 시설투자는 38조5000억원, R&D투자는 21조1000억원 수준이었다. SK하이닉스는 지난해 시설투자 9조9000억원, R&D비용 3조5000억원 정도였다.

반도체업계는 정부가 추후 지원 수준을 더 높일 필요가 있다고 보고 있다. 미국에선 반도체산업 육성을 위해 지난 1월 국방수권법을 개정했으며 ‘반도체지원법(CHIPS for America Act)’이란 특별법도 발의됐다. 중국은 수년 전부터 정부 차원에서 총 55조원 규모의 국가 반도체 펀드를 두 차례 조성하는 등 2025년까지 10년 동안 1조위안(약 170조원)을 투자키로 했다.

반도체 인력 늘리고 특별법도 제정
초격차 승부수…K반도체 510조 투입
정부는 민관 협력을 통해 반도체 인력 양성에도 힘을 쏟기로 했다. 국내 첨단 반도체 인력풀을 키우는 일이 절실하다는 업계 요구를 수용했다. 정부는 반도체 관련 학과 정원을 확대하고 석·박사부터 실무교육까지 원스톱 지원을 제공해 향후 10년간 3만6000명의 반도체 인력을 양성키로 했다. 대학 정원 조정과 부전공·복수전공 활성화를 통해 반도체 학과 정원을 150명으로 확대한다. 반도체 장비기업 연계 계약학과를 5개 대학에 신설해 1만4400명의 실무형 학사인력도 배출한다. 석·박사급 우수 연구인력 육성을 위해 산학 연계형 프로그램도 신설키로 했다.

정부는 이번에 발표한 K반도체 전략과 별도로 반도체 특별법 제정에도 나서기로 했다. 업계 의견을 반영해 △시설 투자 보조금 및 세액공제 확대 △전력, 용수 등 인프라 지원 △인허가 신속처리 등이 특별법에 담길 전망이다. 업계는 양산용 제조설비 투자비용에 대한 세액공제율도 최대 50% 수준까지 높여줄 것을 요구하고 있다. 각종 규제 법령을 유연하게 적용해달라는 것도 업계의 주요 요구사항이다.

정부는 그간 반도체 발전을 민간에만 맡겼지만 글로벌 경쟁이 격화되고 있는 만큼 1조원 규모의 반도체 등 설비투자 특별자금을 신설키로 했다. 우대금리를 적용해 설비투자를 적극 지원한다는 방침이다.

한편, 이날 행사에 참석한 김기남 삼성전자 부회장 등 반도체 기업 최고경영자(CEO)들도 대규모 투자계획 발표로 화답했다. 삼성전자 SK하이닉스 네패스 등은 올해부터 2030년까지 10년간 총 ‘510조원+α’ 규모의 투자를 단행하겠다고 밝혔다. 삼성전자는 내년 하반기 세계 최대 반도체 생산라인인 평택 3공장을 완공하고 2030년까지 시스템반도체에 총 171조원을 투자하기로 했고, SK하이닉스는 파운드리 생산능력을 두 배로 확대하기로 했다.