1x, 1y, 1z, 1a, 1b, 1c
1x, 1y, 1z, 1a, 1b, 1c 등의 알파벳은 반도체 미세 공정의 발전 단계를 나타내는 중요한 지표이다.
각각 18nm, 16nm, 14nm, 14nm, 12nm, 10nm 공정과 동급으로 10나노급 1세대부터 6세대까지를 의미한다.
10나노미터(nm)는 10억 분의 1미터로, 반도체 회로 선폭의 크기를 나타내는 단위이다.
반도체 회로 선폭이 작을수록 반도체 칩의 크기가 작아지고, 성능이 향상되며, 전력 소모가 감소한다.
반도체 미세 공정의 발전 단계를 나타내는 알파벳 표기를 처음으로 사용하기 시작한 기업은 인텔(Intel)이다. 인텔은 2015년에 14nm 공정을 '1z'로 표기하고 이후 10nm 공정을 '1a', 7nm 공정을 '1b'로 표기하는 방식을 도입했다.
이후 삼성전자와 TSMC 등 다른 반도체 기업들도 이와 유사한 방식을 사용하고 있다. 삼성전자는 14nm 공정을 '1z', 10nm 공정을 '1a', 7nm 공정을 '1b'로 표기하고 있으며, TSMC는 16nm 공정을 '7nm', 7nm 공정을 'N7', 5nm 공정을 'N5'로 표기하고 있다.